臺積電發(fā)布基于7nm工藝自研小芯片This,主頻高達4.2GHz

Lynn 6年前 (2019-06-25)

這款芯片是為高性能計算平臺而設計的。

一直以來(lái),7nm對臺積電來(lái)說(shuō)都是意義重大,因這一工藝水平不僅是它遠遠將競爭者遠遠甩在身后的關(guān)鍵點(diǎn),也一度讓其賺得盆滿(mǎn)缽滿(mǎn)。為了延續這樣的優(yōu)勢,臺積電最近宣布了基于7nm工藝的芯片成果,以表達其對于芯片設計封裝的新想法。

臺積電發(fā)布基于7nm工藝自研小芯片This,主頻高達4.2GHz

據悉,在VLSI Symposium(超大規模集成電路研討會(huì ))期間,臺積電展示了自己設計的一顆小芯片(chiplet)This,以展現其用先進(jìn)互連和封裝技術(shù)對當下超大規模芯片功耗和性能挑戰的優(yōu)化。

該芯片采用了一種雙芯片設計,這種技術(shù)可以通過(guò)添加額外的PHY來(lái)進(jìn)行擴展,芯片不同單元間以及不同芯片之間可以形成互聯(lián)。每個(gè)小芯片具有15個(gè)金屬層,模具本身僅為4.4毫米×6.2毫米(27.28mm)。除了雙芯片結構,在基本參數上,This還采用7nm工藝CoWos晶圓基底封裝,用于內建Cortex A72核心和6MiB三緩)。

臺積電采用的是Arm Cortex-A72內核,針對turbo頻率大于4GHz電壓操作特性,它為其配備了高性能單元(7.5T,3p + 3n)并定制設計1級高速緩存單元,這一模塊有兩個(gè)L2緩存塊,每個(gè)1MiB,這些是使用它們的高電流位單元實(shí)現的,并以半速運行。此外,還有一個(gè)大型的6MiB L3緩存,使用高密度位單元實(shí)現,并以四分之一速度運行。

數據顯示,在兩倍的時(shí)鐘速度下,芯片物理運算速度為8GT/s。在互連寬度( interconnect width)為320位時(shí),兩個(gè)裸片之間的總帶寬為320 GB / s。在40μm的bump pitch 下,這實(shí)際上是我們在最近的芯片設計中看到的最激進(jìn)的間距之一,它還可以達到1.6 Tb / s /mm²的數據通量。在1.20的電壓下,Cortex內核可以達到4GHz,實(shí)測最高達到了4.2GHz(1.375V)。

臺積電稱(chēng),這款芯片是為高性能計算平臺設計。綜合來(lái)看,其性能還是十分喜人的。

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