放開(kāi)DUV光刻機出口！ASML回應中國市場(chǎng)問(wèn)題

這次提到的是DUV光刻機出口，并非更先進(jìn)的EUV光刻機。

10月14日，荷蘭ASML首席財務(wù)官Roger Dassen就向中國出口光刻機的問(wèn)題上發(fā)表了口頭聲明。他表示，在一定情況下，向中國出口DUV（深紫外）光刻機無(wú)需美國許可。

有人表示，有了光刻機的支持，中國半導體發(fā)展將有很大進(jìn)步。

但也有人評論稱(chēng)，這次中國企業(yè)隨便購買(mǎi)的只是DUV光刻機，并不是技術(shù)含量最高的EUV（極紫光）光刻機。

ASML：DUV出口不受美國限制

當地時(shí)間10月14日，半導體巨頭、全球光刻機領(lǐng)頭企業(yè)ASML發(fā)布了其2020年第三季度財報，請首席財務(wù)官羅杰·達森（Roger Dassen）也接受了視頻采訪(fǎng)。

當被問(wèn)及美國的半導體出口禁令對ASML的業(yè)務(wù)有何種影響時(shí)，達森回應稱(chēng)，他們注意到了美方的禁令，也意識到了禁令對中國客戶(hù)的影響。隨后達森表示：“如果要解釋一下美國的規定對ASML有什么影響的話(huà)，對于的中國客戶(hù)，我們還是可以直接從荷蘭向他們出口DUV光刻機，無(wú)需任何出口許可。”

但他隨后也補充稱(chēng)，如果相關(guān)系統或零件是從美國出口的，那這些設備仍然需要得到美方的許可。

達森表示，ASML將盡最大努力，盡可能為所有客戶(hù)繼續提供服務(wù)和支持。

根據公開(kāi)的財報電話(huà)會(huì )議錄音，ASML首席執行官彼得·韋尼克（Peter Wennink）也在會(huì )議上確認了這一點(diǎn)。

韋尼克稱(chēng)，根據當前美國的規定，直接從荷蘭向中國出口的DUV光刻機不受影響。

重視中國市場(chǎng)，第二次表態(tài)

事實(shí)上這是最近AMSL第二次針對中國市場(chǎng)的表態(tài)。

在今年9月17日，美國制裁華為禁令生態(tài)后的第三天，ASML全球副總裁沈波先生就表態(tài)，ASML作為全球半導體行業(yè)的合作伙伴，未來(lái)ASML將會(huì )加快在中國市場(chǎng)的布局。

目前中國是最大的芯片需求國，現在又需要生產(chǎn)大量的先進(jìn)制程的芯片，這自然就需要用到大量的EUV光刻機。

面對這樣一個(gè)潛力龐大的市場(chǎng)，AMSL自然不愿放棄。

根據ASML發(fā)布的財報，2020年第三季度ASML光刻機凈銷(xiāo)售額達31億歐元，其中中國大陸市場(chǎng)的營(yíng)收占到21%。

今年5月，ASML與無(wú)錫高新區簽署了戰略合作協(xié)議，在無(wú)錫高新區內擴建升級ASML光刻設備技術(shù)服務(wù)（無(wú)錫）基地。

而此前，ASML已在北京、上海、深圳、無(wú)錫等地開(kāi)設分公司,其中深圳更是其在亞洲最大的軟件研發(fā)中心。

不是EUV，頂尖光刻機仍是問(wèn)題

值得一提的是，達森和韋尼克都強調的是DUV光刻機出口，并未提到更先進(jìn)的EUV（極紫外）光刻機。

而彭博社也在14日的報道中強調，DUV的規則不適用于EUV光刻機。ASML必須獲得許可證才有可能向中國企業(yè)出口EUV光刻機。但荷蘭政府已經(jīng)暫緩了EUV光刻機出口許可，一直到現在都沒(méi)有批準。

EUV光刻機和DUV光刻機有什么不同？

根據曝光源的不同，光刻機分為EUV型（極深紫外線(xiàn)）、DUV型（深紫外線(xiàn)）。從制程范圍來(lái)看，DUV可以制造28nm-7nm之間的各種芯片，但7nm以下的先進(jìn)制程必須用到EUV光刻機。

如果沒(méi)有EUV光刻機，那個(gè)國產(chǎn)芯片制程只能止步7nm。

而ASML是目前全球唯一能夠量產(chǎn)EUV光刻機的廠(chǎng)商。

據了解，EUV光刻機不需要多重曝光，一次就能曝出想要的精細圖形，沒(méi)有超純水和晶圓接觸，在產(chǎn)品生產(chǎn)周期、光學(xué)鄰近效應矯正的復雜程度、工藝控制、良率等方面都有明顯優(yōu)勢。

就是這么一臺設備，一臺需要10萬(wàn)個(gè)零配件，價(jià)值高達7億人民幣，而且一年產(chǎn)量只有幾十臺，且有限供應給三星、臺積電等大客戶(hù)。此前中芯國際2018年5月才下單給ASML。

國內廠(chǎng)商想購買(mǎi)一臺，太難。

中科院入局，國內廠(chǎng)商突破

事實(shí)上，ASML最擔心的還是國內廠(chǎng)商實(shí)現技術(shù)突破，從而導致ASML損失國內市場(chǎng)。

據悉，雖然目前國產(chǎn)光刻機還無(wú)法與ASML的先進(jìn)光刻機相比，但國內廠(chǎng)商一直都在突破，預計在2021年就能夠上市28nm的國產(chǎn)光刻機。

另外，中科院也已經(jīng)正式宣布，要集中力量解決主要問(wèn)題，像光刻機等。

9月16日，中科院院長(cháng)白春禮在中國科學(xué)院 “率先行動(dòng)”計劃第一階段實(shí)施進(jìn)展發(fā)布會(huì )上表示，“率先行動(dòng)”計劃第二階段要把美國 “卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局，集中全院力量聚焦國家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)，這其中就包括了光刻機。

除中科院外，華為等廠(chǎng)商也加速研發(fā)突破光刻機等技術(shù)，僅華為就計劃在2年內投入80億美元，要在光刻機技術(shù)方面實(shí)現突破。一旦國產(chǎn)光刻機實(shí)現突破，ASML在DUV光刻機上價(jià)格優(yōu)勢也不再有。

尾聲

從ASML角度來(lái)看，出售DUV光刻機一方面為了打開(kāi)國內的市場(chǎng)，另一方面也為了延緩國產(chǎn)光刻機的研發(fā)進(jìn)度。

但在美國制裁的背景下，整個(gè)行業(yè)指望設備完全國產(chǎn)化也是不現實(shí)的事情，所以購買(mǎi)ASML的DUV光刻機解決燃眉之急應該是絕大多數企業(yè)的首選。

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